我国拟修改专利法提高专利授权“门槛”

　　25日首次提请全国人大常委会审议的专利法修正案草案摒弃了现行专利法关于专利授权条件“相对新颖性标准”，而采用了“绝对新颖性标准”。这意味着我国的专利授权“门槛”将进一步提高。

　　根据现行专利法的规定，我国专利授权条件采用的是“相对新颖性标准”，即规定申请发明、实用新型专利权的发明创造没有在国内外公开发表过，也没有在国内公开使用过或者以其他方式为公众所知；申请外观设计专利权的设计没有在国内外公开发表过，也没有在国内公开使用过。

　　根据该规定，一些没有公开发表过的技术，虽然在国外已经被公开使用或者已经有相应的产品出售，只要在我国国内还没有人公开使用或者没有相应的产品出售，就可以在我国授予专利，从而导致我国专利质量不高。这既不利于激励自主创新，也妨碍了国外已有技术在我国的应用。

　　为此，专利法修正案草案采用了“绝对新颖性标准”：规定授予专利权的发明创造在国内外都没有为公众所知。此外，为进一步提高外观设计专利的质量，草案还规定：对平面印刷品的主要起标识作用的设计不授予专利权。